ක්රයෝජනික් පොම්පයේ පොම්ප මූලධර්මය

ක්රයෝජනික් පොම්පයට ලබා දී ඇත්තේ සීතල තහඩුවක් සහිත සීතල තහඩුවකින් ද්රව හීලියම් හෝ ශීතකරණයක් මගින් අතිශයින්ම අඩු උෂ්ණත්වයක් ලැබේ. එය ගෑස් ense ාතනයට හේතු වන අතර පොම්පයේ අවසාන පීඩනයට වඩා ens නීභවනාදියෙහි වාෂ්පීකරණය කරන පීඩනය දිගටම කරගෙන යන අතර එමඟින් පොම්ප කිරීමේ ක්රියාව සාක්ෂාත් කර ගනී. ක්රයෝජනික් පොම්ප කිරීමේ ප්රධාන කාර්යයන් වන්නේ ක්රයෝජනික් ens නීභවනය, ක්රයෝජන් ආක්රමණය සහ ක්රයෝජනික් ග්රහණයයි. සීතල ens නීභවනය: සීතල තහඩුවේ හෝ ensed නීභූත ගෑස් තට්ටුවේ ensed නීභවනය වන ගෑස් අණුවක හෝ ensed නීභූත ගෑස් තට්ටුව මත ensed නීභවනය වන ගෑස් අණුවක සමතුලිතතාවය. වාතය පොම්ප කරන විට සීතල තහඩුවේ උෂ්ණත්වය 25k ට වඩා අඩු විය යුතුය. හයිඩ්රජන් පොම්ප කරන විට, සීතල තහඩුව සිසිල් ය. ක්රයෝජනික් enses නීභවනයේ thickness ණකම මි.මී. 10 ක් පමණ වේ. ක්රයෝජනික් adsorption: තනි අණුක ස්ථර thickness ණකම (සෙන්ටිමීටරගේ අනුපිළිවෙල (සෙන්ටිමීටර අනුපිළිවෙලකින් සීතල තහඩුවක ආලේප කරන ලද adsorbent එකක මතුපිටට ගෑස් අණු adsornowerent එකකට සමාන වේ. ADDROPTORT හි සමතුලිතතාවය පීඩාවට පත්වීම එකම උෂ්ණත්වයේ දී වාෂ්ප පීඩනයට වඩා බෙහෙවින් අඩු ය. හයිඩ්රජන් හි වාෂ්ප පීඩනය 20k හි වායුගෝලීය පීඩනයට සමාන නම්, ADSROPTIONTST ESTIBRIM පීඩනය 20k සක්රීය කාබන් වලට වඩා අඩුය. මෙය අඩු උෂ්ණත්වවලදී Adsorbbing මගින් ඉහළ උෂ්ණත්වවලදී පොම්ප කිරීමට ඉඩ සලසයි. උෂ්ණත්ව උගුල: පොම්පයේ උෂ්ණත්වය ගැන ined නීත්යානුකූල විය නොහැකි ගෑස් අණු වළලනු ලැබූ අතර වැඩෙන වායුවන්ගේ ගෑස් තට්ටුවක් විසින් අවශෝෂණය කර ගනී.
පොදුවේ ගත් කල, පොම්පයේ අවසාන පීඩනය වන්නේ සීතල තහඩු උෂ්ණත්වයේ දී ensed නීභූත වායුවේ වාෂ්ප පීඩනයයි. 120K උෂ්ණත්වයකදී, වාෂ්ප ජලයේ පීඩනය Pa ට වඩා අඩුය. හීලියම්, නියොන් සහ හයිඩ්රජන් හැර අනෙකුත් වායූන්ගේ වාෂ්පවල වාෂ්ප පීඩනය 20k උෂ්ණත්වයේ උෂ්ණත්වයේ පීඩනය PA එකට වඩා අඩුය. කෙසේ වෙතත්, පොම්පය සහ සීතල තහඩුව අතර උෂ්ණත්ව වෙනස නිසා පොම්පයේ අවසාන පීඩනය ens නීභවයේ වාෂ්පීකරණයට වඩා වැඩි ය. කාමර උෂ්ණත්වයේ කන්ටේනරයක් සහ 20k හි අඩු උෂ්ණත්ව තහඩුවක් සඳහා, පොම්පයේ අවසාන පීඩනය ens නීභෙන වාෂ්ප පීඩනයට වඩා හතර ගුණයක් පමණ වේ.